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      1. 激光圖形化直寫設備MiScan

        應用場景

          >> 高校、研究所、企業

          >> 新一代高速高精度圖形化設備、滿足小批量生產

          >> 集成電路,MEMS、微光學、微流體、傳感器、計算機全息圖

         

        技術特點

          >> 高精密直線電機運動平臺,支持8”基底

          >> 采用大功率405nm LD 激光器(選配DPSSL 紫外激光器)

          >> 自動聚焦和CCD對準

          >> 分區定位,多基片陣列曝光

          >> 掃描式曝光,支持灰度曝光

          >> 3D導航自動聚焦

          >> 支持GDSII,DXF,BMP等文件格式

         

        客戶價值

          >> 高性價比產品

          >> 高產能滿足小批量生產

         

         

        規格參數

         


              MiScan 系列激光圖形化直寫設備省去了繁瑣的掩膜加工步驟,提供快速,高效和低成本光刻制程的解決方案,尤其對于有光刻Mask外協需求的用戶來說,可以自制相應的Mask降低成本或提升研發速度需求;本產品采用大功率的半導體激光光源,長壽命、低功耗;用戶操作界面友好靈活,支持多種版圖設計格式;可以根據自身的需求,方便靈活的選用不同的投影倍率實現多種模式的曝光。

         

              MiScan為最新型通用產品,可實現0.8um 的亞微米分辨率光刻及0.5um的套刻精度,其主要技術特點如下:

        1. 技術先進:對比于Nuflare/JEOL /ETEC/Heidelberg /Micronic等廠商的第一代單或線束描繪直寫技術,蘇大維格采用國際先進的無掩膜第二代面空間光調制技術:進行面空間光調制掃描技術,使用步進和高速掃描光刻掃描技術相結合,速度更快,產能更高,可應用于350nm節點大規模IC生產中的非關鍵層掩膜版制作和0.8μm節點器件的直寫光刻。
        2. 靈活高效:采用無掩膜直寫光刻技術,去除了繁瑣的掩膜加工步驟,降低研發生產成本,縮短研發周期,具有快速、精細等曝光模式和Mask/晶圓器件制作等多種工作模式。
        3. 應用廣泛:蘇大維格的直寫式光刻機以其獨特的設計優勢,可廣泛應用于集成電路設計流片與制造、掩膜版制造、薄膜電路制造、MEMS設計流片與制造、微電子和生物芯片等領域的研發生產制造。
        4. 軟件兼容廣泛:廣泛支持BMP、GDS、TDB、DXF (AutoCAD R2000)、CIF、GDS2、Gerber(可選)等多版圖設計格式。
        5. 量身打造:根據客戶需求量身打造專用功能:如智能化微環境控制模塊,多種格式的數據轉換等,以應對不同應用客戶的需求。
        6. 服務專業/高效:30分鐘電話響應,24小時中國大陸境內原廠工程師現場到位服務。
        7. 低成本維護:系統穩定高效,低故障率,部件壽命長;產品體積小巧;模塊化設計,維護簡便易行。
        8. 高性價比:優秀的直寫技術,厚膠高產能、高品質的設備,優厚的價格優勢。
        9. 易操作:采用JOB,RECIPE 的模式,建立多場景工作模式,人性化用戶操作界面,簡單,易操作。

         

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